此外,DNK大日本科研株式會社;曝光機還遵循ISO-9001的規定,進行嚴格的質量管理。
今后,對所有的產品,DNK大日本科研株式會社;曝光機都將以比現在更進一步的「高品質」、「短交貨期」和「低成本」為目標,并以制造可靈活滿足客戶需求的產品而奮進。
希望得到大家更大的支持和關愛。
商號: |
株式會社 大日本科研 (Japan Science Engineering Co., Ltd.) |
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總部: |
1, Kuguso, Terado-cho, Mukou-city, Kyoto 617-0002, Japan |
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設立: | 1967年2月3日 | |
法人代表: | 代表取締役社長 岡本浩志 | |
資本金: | 5000萬日元 | |
結算期: | 4月 | |
員工數: |
132名 男115名、女17名 (截止到2025年8月) |
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事業內容: |
?精密機械的設計?制造?銷售 ?理化學儀器?測量儀器?光學儀器的設計?制造?銷售 |
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董事會: |
代表取締役社長 岡本浩志 董事 杉原正規 董事 島田崇司 |
2025年 | 第8.5H代卷對卷(Roll to Roll)雙面曝光機的開發和發貨開始 |
2023年 | 東工廠廠房內增建東工廠南樓 |
2021年 | Desktop Mask Aligner 的開發以及開始銷售 |
2020年 | 8英寸晶圓用 新型掩膜對準曝裝置(Mask Aligner)的開發以及開始銷售 |
2019年 | 榮獲SCREEN GA2019 Best Supplier Award |
2018年 | LED LAMP HOUSE搭載曝光機開始銷售 |
2017年 | 將INDEX Technologies Inc. 吸收兼并 |
2015年 | 東京辦事處 開設 |
2014年 |
薄膜Roll to Roll雙面曝光裝置的開發 1μm型無掩膜曝光裝置的開發 |
2013年 | 晶片TITLER轉動裝置的開發并開始供貨 |
2012年 | 電感線圈用曝光機的開發以及開始供貨 |
2011年 |
LLED、LD用Stepper( 投影曝光裝置) 的開發 東工廠屋頂上設置太陽能發電系統 |
2010年 |
開始研發和供應新型圖像處理裝置(GA-LITE) 3μm·5μm型無掩膜曝光裝置的開發 |
2009年 |
榮獲京都右京稅務署頒發的優良申告法人持續再表彰獎 取得激光修復裝置的制造?銷售權 |
2008年 |
研發MUM曝光裝置,榮獲經濟產業省頒發的關西領跑者大獎 開始研發和供應TOUCH PANEL(觸摸屏)用曝光機 |
2007年 | 研發三維微細加工(MEMS)用曝光機 |
2006年 |
以資本金2億4千萬日元和美商Ball semiconductou Inc.在京都南區合資設立 INDEX Technologies Inc.,開始研發無掩膜曝光機 KES?環境管理體系階段2登錄。 |
2005年 | 在京都市伏見區橫大路天王后開設橫大路工廠 |
2004年 | 在東工廠廠區內增設東**工廠(對應大型設備) |
2003年 |
在京都南區久世筑山町445番地2開設久世工廠 開始研發和供應PWB用Roll to Roll曝光機 開始研發和供應LED、LD用曝光機 |
2002年 |
開始研發和供應有機EL用封止裝置 研發第5代用2軸步進曝光機 |
2001年 | 開始研發和供應有機EL用曝光機 |
2000年 | 在韓國?臺灣設立服務網點 |
1999年 | 取得ISO9001認證 |
1998年 |
開始研發和供應印刷電路板量產用曝光機 開始研發和供應直立型步進曝光機 |
1997年 |
在國內**周期間榮獲勞動大臣頒發的進步獎 榮獲京都右京稅務署頒發的優良申告法人持續再表彰獎 開始研發和供應PDP用曝光機 |
1996年 |
開始供應立式大型基板用近接曝光機 在東工廠1F設置適應大型機的無塵車間 開始啟用公司內部LAN(局域網) |
1994年 | 開始研發LCD量產用第3期生產線裝置 |
1993年 |
開始供應基板TITLER 開始供應線幅測量機 |
1992年 |
舉行創立25周年紀念儀式 榮獲京都右京稅務署長頒發的優良申告法人表彰獎 正式導入CAD |
1991年 | 在東工廠2F設置無塵車間 |
1990年 | 開始供應裝配有變形裝載臺的大型基板用近接曝光機 |
1989年 |
開始供應裝載有間隙傳感器的非接觸大型基板用近接曝光機 在京都市南區久世殿城町190番地1新設東工廠 開始供應二維CCD傳感器方式自動對位曝光機 |
1988年 |
完成間隙傳感器 開始供應混合印刷電路板基板用步進曝光機 |
1987年 |
舉行創立20周年紀念儀式 在國內**周期間榮獲京都勞動標準局長頒發的進步獎 |
1986年 | 完成TAB系統用直立型?高性能自動信息處理器 |
1985年 | 完成二維CCD傳感器方式定位裝置 |
1984年 |
開始供應LCD彩色濾光片用自動對位曝光機 開始供應裝載有新方式大型光源的曝光機 |
1983年 | LCD用曝光機的大型化 |
1982年 |
舉行創立15周年紀念儀式 開始供應LCD用自動對位曝光機 在總部工廠內設置無塵車間 開始供應熱感應打印頭用自動對位曝光機 |
1981年 |
在京都市西京區大原野石見町28番地1開設大原野工廠 完成線形傳感器方式自動對位裝置 |
1980年 | 著手研發大型掩膜自動制圖機 |
1979年 |
在總部廠內增設南館 在總部工廠內導入辦公用電腦,著手推進辦公自動化 |
1977年 |
開始供應熱感應打印頭用掃描曝光機 開始供應LCD用曝光機 開始供應測試信息處理器 |
1976年 | 完成新方式光源(橢圓鏡-復眼透鏡方式) |
1975年 | 開始供應TAB曝光機 |
1974年 |
將總部及工廠搬遷到京都府向日市寺戸町久久相1番地 開始供應真空密著式曝光機 |
1973年 | 開始供應新型精密縮小相機?自動接觸打印機 |
1971年 |
開始供應熱感應打印頭試制用對位曝光機 資本金增加到5,000萬日元 |
1970年 |
著手研發半導體用掩膜自動制圖機等 資本金增加到4,000萬日元 |
1969年 | 開始供應四筒式全自動縮小多面洗印照相機 |
1968年 |
開始供應半導體用曝光機械?掩膜制作用機械?二維比較測量儀器 資本金增加到2,500萬日元 |
1967年 | 以250萬日元的資本金創辦了株式會社大日本科研,總部設立在京都市上京區五辻通智恵光院西入 |