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DNK大日本科研株式會社;曝光機



DNK大日本科研株式會社;曝光機自創業以來,一貫堅持「****」「客戶至上」,努力制造滿足客戶需求的產品。
其間,承蒙眾多客戶的悉心指導和惠顧而得以今日堅實的成長。
本公司一直以生產融合了光學?精密機械?電子控制?各軟件技術的光機電一體化工程裝置及液晶顯示屏制造裝置為主發展至今。現在,全體員工正為開發面向新一代的高新技術產品而激情高昂。


此外,DNK大日本科研株式會社;曝光機還遵循ISO-9001的規定,進行嚴格的質量管理。

今后,對所有的產品,DNK大日本科研株式會社;曝光機都將以比現在更進一步的「高品質」、「短交貨期」和「低成本」為目標,并以制造可靈活滿足客戶需求的產品而奮進。

希望得到大家更大的支持和關愛。



商號: 株式會社 大日本科研
(Japan Science Engineering Co., Ltd.)

本社

總部:

1, Kuguso, Terado-cho, Mukou-city, Kyoto 617-0002, Japan

設立: 1967年2月3日
法人代表: 代表取締役社長 岡本浩志
資本金: 5000萬日元
結算期: 4月
員工數: 132名
   男115名、女17名 (截止到2025年8月)
事業內容: ?精密機械的設計?制造?銷售
?理化學儀器?測量儀器?光學儀器的設計?制造?銷售
董事會: 代表取締役社長      岡本浩志
董事           杉原正規
董事           島田崇司
2025年 第8.5H代卷對卷(Roll to Roll)雙面曝光機的開發和發貨開始
2023年 東工廠廠房內增建東工廠南樓
2021年 Desktop Mask Aligner 的開發以及開始銷售
2020年 8英寸晶圓用 新型掩膜對準曝裝置(Mask Aligner)的開發以及開始銷售
2019年 榮獲SCREEN GA2019 Best Supplier Award
2018年 LED LAMP HOUSE搭載曝光機開始銷售
2017年 將INDEX Technologies Inc. 吸收兼并
2015年 東京辦事處 開設
2014年 薄膜Roll to Roll雙面曝光裝置的開發

1μm型無掩膜曝光裝置的開發
2013年 晶片TITLER轉動裝置的開發并開始供貨
2012年 電感線圈用曝光機的開發以及開始供貨
2011年 LLED、LD用Stepper( 投影曝光裝置) 的開發

東工廠屋頂上設置太陽能發電系統
2010年 開始研發和供應新型圖像處理裝置(GA-LITE)

3μm·5μm型無掩膜曝光裝置的開發
2009年 榮獲京都右京稅務署頒發的優良申告法人持續再表彰獎

取得激光修復裝置的制造?銷售權
2008年 研發MUM曝光裝置,榮獲經濟產業省頒發的關西領跑者大獎

開始研發和供應TOUCH PANEL(觸摸屏)用曝光機
2007年 研發三維微細加工(MEMS)用曝光機
2006年 以資本金2億4千萬日元和美商Ball semiconductou Inc.在京都南區合資設立
INDEX Technologies Inc.,開始研發無掩膜曝光機

KES?環境管理體系階段2登錄。
2005年 在京都市伏見區橫大路天王后開設橫大路工廠
2004年 在東工廠廠區內增設東**工廠(對應大型設備)
2003年 在京都南區久世筑山町445番地2開設久世工廠

開始研發和供應PWB用Roll to Roll曝光機

開始研發和供應LED、LD用曝光機
2002年 開始研發和供應有機EL用封止裝置

研發第5代用2軸步進曝光機
2001年 開始研發和供應有機EL用曝光機
2000年 在韓國?臺灣設立服務網點
1999年 取得ISO9001認證
1998年 開始研發和供應印刷電路板量產用曝光機

開始研發和供應直立型步進曝光機
1997年 在國內**周期間榮獲勞動大臣頒發的進步獎

榮獲京都右京稅務署頒發的優良申告法人持續再表彰獎

開始研發和供應PDP用曝光機
1996年 開始供應立式大型基板用近接曝光機

在東工廠1F設置適應大型機的無塵車間

開始啟用公司內部LAN(局域網)
1994年 開始研發LCD量產用第3期生產線裝置
1993年 開始供應基板TITLER

開始供應線幅測量機
1992年 舉行創立25周年紀念儀式

榮獲京都右京稅務署長頒發的優良申告法人表彰獎

正式導入CAD
1991年 在東工廠2F設置無塵車間
1990年 開始供應裝配有變形裝載臺的大型基板用近接曝光機
1989年 開始供應裝載有間隙傳感器的非接觸大型基板用近接曝光機

在京都市南區久世殿城町190番地1新設東工廠

開始供應二維CCD傳感器方式自動對位曝光機
1988年 完成間隙傳感器

開始供應混合印刷電路板基板用步進曝光機
1987年 舉行創立20周年紀念儀式

在國內**周期間榮獲京都勞動標準局長頒發的進步獎
1986年 完成TAB系統用直立型?高性能自動信息處理器
1985年 完成二維CCD傳感器方式定位裝置
1984年 開始供應LCD彩色濾光片用自動對位曝光機

開始供應裝載有新方式大型光源的曝光機
1983年 LCD用曝光機的大型化
1982年 舉行創立15周年紀念儀式

開始供應LCD用自動對位曝光機

在總部工廠內設置無塵車間

開始供應熱感應打印頭用自動對位曝光機
1981年 在京都市西京區大原野石見町28番地1開設大原野工廠

完成線形傳感器方式自動對位裝置
1980年 著手研發大型掩膜自動制圖機
1979年 在總部廠內增設南館

在總部工廠內導入辦公用電腦,著手推進辦公自動化
1977年 開始供應熱感應打印頭用掃描曝光機

開始供應LCD用曝光機

開始供應測試信息處理器
1976年 完成新方式光源(橢圓鏡-復眼透鏡方式)
1975年 開始供應TAB曝光機
1974年 將總部及工廠搬遷到京都府向日市寺戸町久久相1番地

開始供應真空密著式曝光機
1973年 開始供應新型精密縮小相機?自動接觸打印機
1971年 開始供應熱感應打印頭試制用對位曝光機

資本金增加到5,000萬日元
1970年 著手研發半導體用掩膜自動制圖機等

資本金增加到4,000萬日元
1969年 開始供應四筒式全自動縮小多面洗印照相機
1968年 開始供應半導體用曝光機械?掩膜制作用機械?二維比較測量儀器

資本金增加到2,500萬日元
1967年 以250萬日元的資本金創辦了株式會社大日本科研,總部設立在京都市上京區五辻通智恵光院西入
實驗?研究用曝光裝置
?200mm 和?300mm兼容曝光機
無掩膜曝光裝置
MEMS用曝光裝置
膠片用曝光裝置
FPD用曝光裝置
其他量產用曝光裝置
基板用貼合裝置
Desktop Mask Aligner


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